宇环数控/YUHUANCNC 品牌
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YH2M8432C高精度立式双面研磨机主要用途:
该机床主要用于阀板、阀片、磨擦片、刚性密封圈、气缸活塞环、油泵叶片等金属零件的双面研磨和抛光;也可用于硅、锗、石英晶体、玻璃、陶瓷、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂等非金属硬脆材料薄片零件的双面研磨和抛光。
YH2M8432C高精度立式双面研磨机技术特点:
(1)该机为三电机控制,上抛光盘及太阳轮各由独立减速电机驱动,下抛光盘及内齿圈同步驱动,控制灵活,工艺范围广;
(2)内齿圈通过凸轮机构实现升降,操作方便,升降灵活可靠;
(3)柱销型游星轮,耐磨损,使用寿命高;
(4)双层推拉门式防护,维护方便,防护可靠;
(5)柔性加载系统,精密电气比例阀控制,加压稳定可靠,压力均匀精度高;
(6)上抛光盘设有安全自锁装置,与程序互锁,确保操作安全性;
(7)触摸屏人机操作界面,PLC控制,界面友好,信息量大;
(8)可选配恒温冷却系统,满足精密抛光。
高精度,高效率平面抛光机,双面研磨设备
项目 | 单位 | YH2M8432C |
上抛光盘尺寸(外径×内径×厚度) | mm | Φ1070mm×Φ495mm×45mm |
下抛光盘尺寸(外径×内径×厚度) | mm | Φ1070mm×Φ495mm×45mm |
zui大加工压力 | Kgf | 300Kgf(抛光垫及毛刷抛光) |
加工件zui小厚度 | mm | 0.4mm(为直边工件) |
加工件zui大尺寸 | mm | 290mm(矩形件对角线290mm) |
被加工件精度 | 在来料平行度0.005以内时保证平行度0.005 | |
上研磨盘转速 | rpm | 5-50转/分(无级调速) |
下研磨盘转速 | rpm | Lower plate speed:5-45rpm |
外形尺寸(约:长×宽×高) | 1600mm×1440mm×2700mm(2.3㎡) | |
外型尺寸(约:长×宽×高) | mm | 1600×1625×2150 |
整机重量 | kg | 3200Kg |