研磨抛光机
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具体成交价以合同协议为准
2024-11-15 09:53:27
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宇环数控机床股份有限公司

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产品简介

研磨抛光机控制元器件均采用24V电源,PLC电源采用隔离变压器供电,降低外界电网杂波干扰提高了机床的安全性。

详细介绍

研磨抛光机主要用途:

主要用于大尺寸玻璃的平面抛光。


研磨抛光机技术特点:


1.该机为单抛光头型抛光机,工件吸附于上抛光盘。

2.下上盘转数均可由数控程序控制,按工艺要求实现无级变速,满足不同抛光工艺要求。

3.上抛光头由低摩擦气缸通过电气比例阀精确控制抛光压力,对lying underwall上的工件施压,确保抛光精度。

4.下抛光盘安装在托盘上,通过合理的支撑设计,保证了工件盘的端面跳动和抛光时的刚性。

5.上抛光盘通过气缸来实现翻转功能,方便上下料。

6.上抛光盘的移动采用伺服电机滚珠丝杠进行直线移动的方式,负荷分布合理,移动平稳,稳定性好。

7.采用人机接口与可编程控制PLC相结合,操作方便快捷。

8.用触摸屏做为人机接口显示报警和机床状态的实时信息;接口友好,信息量大。

9.控制元器件均采用24V电源,PLC电源采用隔离变压器供电,降低外界电网杂波干扰提高了机床的安全性。


主要技术参数:


项目

单位

参数

下研抛光尺寸(外径×厚度)

mm

Φ1800 × 100

上研抛光尺寸(外径

mm

Φ1250

抛光压力

MPa

反压0~800kg

下抛光盘转速

rpm

5~68 无级调速

上抛光盘转速

rpm

5~68 无级调速

下抛光盘电机


功率18.5kw,额定转速1440rpm

上抛光盘电机


功率3kw,额定转速 1450rpm

加压气缸(缸径×行程)

mm

Φ160 x 250

翻转气缸(缸径×行程)

mm

Φ200 x 350

外型尺寸(约:长×宽×高)

mm

3000 x 2450 x 2500

设备质量

kg

9000


 

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