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加工对象: Silicon wafer, etc
通过在纵向切入式(In-Feed)研削机的精加工研削轴(Z2轴)上使用Poligrind(抛光性研削磨轮),在不需要增加新设备及改变现有生产方式的前提下,就可改善晶圆的精加工表面粗糙度和抗弯强度,获得更高的加工品质。
于现有的Z2 轴(精加工研削)用磨轮相比较,有望提高抗弯强度和表面粗糙度等加工品质。
Fine grinding wheel | Poligrind |
Warpage level | 3.5 mm |
Workpiece | 8" silicon mirror wafer |
Z2 removal amount | 35 µm |
Final thickness | 50 µm |
Fine grinding wheel | #2000 B-K09 |
Warpage level | 14.0 mm |
Workpiece | 8" silicon mirror wafer |
Z2 removal amount | 35 µm |
Final thickness | 50 µm |
Fine grinding wheel | Poligrind |
Ra (µm) | 0.009 |
Rmax (µm) | 0.065 |
Workpiece | 8" silicon mirror wafer |
Measurement system | Non-contact high-resolution surface profile measurement system |
Fine grinding wheel | #2000 B-K09 |
Ra (µm) | 0.015 |
Rmax (µm) | 0.081 |
Workpiece | 8" silicon mirror wafer |
Measurement system | Non-contact high-resolution surface profile measurement system |
Poligrind(抛光性研削磨轮)的使用注意事项
为了获得更好的加工品质,需要重新设定加工条件。为此本公司的应用技术工程师将会根据具体的加工物和加工要求,竭诚为客户提供加工方案。