CMP设备
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东精精密设备(上海)有限公司
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CMP是在IC 制造工程中晶圆表面平坦化工艺之一环,使用化学研磨剂、研磨垫等,通过化学和机械的复合作用,对晶圆表面的凹凸不平进行研磨,达到平坦化要求的设备。
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