激光刻膜机适用于非晶硅薄膜太阳能电池的透明导电膜（SnO2、ZAO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Ai）的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
激光刻膜机介绍
激光波长       ： 1064nm或532nm
    刻膜线宽       ： 30um ～ 100um
    刻膜速度       ： 30m／min ～ 60m／min
    刻膜精度       ： 三线外沿总宽度 < 400um
    玻璃幅面       ： 1245mm x 635mm
    占地面积(长x宽)： 3000mm x 1600mm
简介
半导体端面泵浦激光器，双光路等能量分光
  高刚性主机采用大理石床身、铸铁龙门结构
  精密滚珠丝杠伺服驱动．龙门一维移动
  电池板静止．双激光头双工位同步加工无需拼接
  CCD刻线质量检测和工件辅助定位
  同步吸尘装置