微小电气机械系统技术简称为MEMS,它被视为将成为下一个世代产业的基础而受到瞩目,zui近几年在市场上急速的扩展。
　　
　　MEMS的技术和半导体的产业相比更是细微化的技术,因此有必要更精确的焦距调整来因应厚膜的阻抗及高段落的差异因此开发出MEMS用将分辨率及焦距调整为zui适当的缩小投影曝光装置。
　　
　　另外为了能够充分利用运作时无尘室空间所花费的成本,因此我们更加的要求降低MEMS用曝光装置所占的面积,所以在MEMS特殊的制造工程上有必要结合芯片内面的调整标志的曝光装置。
　　
　　NIKONENGINEERING股份有限公司在1995年,开始贩卖磁头的ABS加工用曝光装置获得了很高的评价,这次开始发行的「小型曝光机NES1-h04」是将以前的缩小投影曝光装置的技术为基础,并且针对MEMS制造时的需求所开发出的新产品。