吉致电子JEEZ钼抛光液/激光反射镜研磨液

吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。 参考价￥8

无锡抛光液厂家、研磨液供应商

无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有25年的研发经验。产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理。 参考价￥8

吉致电子JEEZ氧化硅抛光液

吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。 参考价￥8

吉致电子JEEZ纳米硅溶胶抛光液

吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。 参考价￥8

吉致电子JEEZ硅溶胶悬浮液

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。 参考价￥8

吉致电子JEEZ硅溶胶粗抛液

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。 参考价￥8

吉致电子JEEZ氧化硅粗抛液

无锡吉致电子25年研发生产——氧化硅抛光液，硅溶胶抛光液，纳米硅溶胶抛光液，纳米氧化硅抛光液，氧化硅悬浮液，硅溶胶悬浮液
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。​ 参考价￥8

吉致电子JEEZ氧化硅粗磨液

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。 参考价￥8

JEEZ吉致电子JEEZ生产硅溶胶抛光液

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。 参考价￥8

吉致电子JEEZ氧化硅抛光液厂家

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。 参考价￥8

吉致电子JEEZ硅溶胶抛光液厂家

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。 参考价￥8

吉致电子JEEZ多晶金刚石研磨液

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光 参考价￥8