宇环数控/YUHUANCNC 品牌
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复杂型面扫磨抛光机YH2M81116A主要特点
该套设备同时具备了工件盘的公转运动和自转运动，同时抛光盘升降运动通过伺服电机及滚珠丝杠驱动，提高了生产效率，延长了耗材使用寿命，提升了工件良率。
本机工件盘、抛光盘均由独立的变频器控制变频电机实现无极调速，以满足不同抛光工艺要求。同时抛光盘的加压由伺服电机驱动滚珠丝杠在直线导轨上进行位移，精确控制抛光盘位移，保持压力稳定，确保抛光精度。
本机所有能接触到抛光液的液槽、箱体面板、接液盆，均采用不锈钢或铝合金等耐腐蚀材质。
设备真空系统配置有数显真空压力表，实时监控负压，以防欠压掉片。
设备配置真空气液分离装置，自动排液；
本机采用人机界面HMI(15寸大触摸屏)与可编程控制PLC相结合，操作方便快捷，界面友好，信息量大。
复杂型面扫磨抛光机YH2M81116A主要用于铝合金、不锈钢等金属材料和玻璃、陶瓷等非金属材料的平面及2.5D和3D弧面的扫磨抛光，具有效率高，稳定性好，工件良率高等优点。
YH2M81116A技术参数
| 项目Item 产品型号Model | 单位 Unit | YH2M81116A |
| Lower plate尺寸（外径×厚度） Lower plate size(OD×Thickness) | mm | φ400mm×35mm（铝合金） φ400mm×35mm(Aluminum alloy) |
| 上盘尺寸（外径） Upper plate size(OD) | mm | φ1135mm |
| 抛光头数量 Number of polishing head | 个 | 5 |
| 工件盘自转转速 Workpiece plate rotation speed | rpm | 2～45±2 rpm |
| 工件盘公转转速 Workpiece plate revolution speed | rpm | 1～12 rpm |
| 抛光盘转速 Polishing plate rpm | rpm | 2～90±2rpm |
| 抛光盘升降行程Polishing plate lifting stroke | mm | 350mm |
| 机床外形尺寸（长×宽×高） Overall dimensions(L*W*H) | mm | 1900×1500×2800mm |
| 整机重量 Total weight | Kg | 3000Kg |
