纳米氧化铈研抛
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深圳市纳诺斯精密机械技术有限公司
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纳米氧化铈研抛盘
纳米氧化铈研抛盘是以氧化铈材料为主，另由数种复合材料构成的，专用于光学及高档手机玻璃研磨抛光。可替代传统氧化铈抛光布及沥青抛光盘，其特点：不易变形.切削力佳.易修正平面度.寿命长.是常规氧化铈皮3-4倍的耐用度.标准厚度5-6MM，具有研磨和抛光的双重功效，在射灯下检测无任何划伤，直径100MM内平面度可达到一个光圈内，粗糙度0.2纳米左右，使用时间以12小时/天为计算，预计可以用2-3个月。是国内一家针对光学行业的工艺技术！
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