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设备用途：
广泛应用于大型模具、手机面板、手机外壳、各种LOGO、大型玻璃、导光板，陶瓷板、阀片、五金零部件等平面抛光。
设备原理：
1、本研磨为精密抛光设备，被磨、抛材料放于抛光盘上，抛光盘逆时钟转动，转速可控，加压气缸对工件施压或砝码加压，工件与抛光盘作相对运转磨擦，来达到抛光目的。
2、此设备配合高精密平面抛光机使抛光盘平整度达到±0.003mm，确保高精密零部件加工的稳定性，大大节省时间。
设备特点：
1、系列抛光机工件加压采用气缸加压或砝码加压的方式，压力可调;
2、系列抛光机采用按钮控制或PLC程控，速度可调，操作方便。
3、研磨抛光机采用自动滴液系统，滴液速度可调，流速均匀，方便控制成本。
设备规格：
