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北京市所在地
名 称:高纯金颗粒 Au99.999 蒸发金粒
符 号:Au
原子量:196.97
纯 度:4N 5N
熔 点:1064.2℃
沸 点:2808℃
密 度:19.32g/cm3
高纯金颗粒 Au99.999 蒸发金粒
金溅射靶具有与贵金属金(Au)相同的性质。黄金是具有光泽的黄色光泽的更美丽的贵金属之一。它的熔点为1,064°C,密度为19.3 g / cc,在1,132°C时的蒸气压为10 -4 Torr,理想的蒸发温度约为1,400°C。它柔软,致密,可延展,易延展,并且是热和电的优良导体。金溅射靶的沉积膜在半导体,传感器,电池和数据存储的生产中用作涂层。
金靶材制备工艺流程
备料 - 真空感应熔炼 - 退火 - 轧制 - 冲压 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 检验 - 包装
金靶材的应用
金溅射靶用于标准扫描电子显微镜(SEM)的涂层,它还被用来以薄薄的导电材料层覆盖样本。金需要防止在常规的SEM模式下用电子束使样品带电以及增加信噪比。其他:薄膜的物理气相沉积(PVD),激光烧蚀沉积(PLD),用于半导体,显示器,LED和光伏器件的磁控溅射。
金靶材的其他合金形式
金锗、金锡合金靶材等。