单面抛光机

高刚性主轴结构，可通过联轴器吸收部分振动，抛光时不会发生有害的震动，有利于提高产品的抛光质量。

　　上抛光装置采用电机驱动曲柄滑块往复运动机构，实现上盘整体稳定摇摆，摇摆速度0~100mm/s，摇摆幅度大可达700mm。

　　采用气缸直驱控制上抛光盘的升降与翻转，升降快速且平稳；翻转的角度可达75°。

　　采用吸附衬垫的吸附方式来固定工件。

　　采用PLC和触摸屏控制，在触摸屏里可预设不同压力条件下的工艺参数。

　　变频调速驱动装置，实现软启动、软停止，可根据用户的工艺需求调节机器转速，达到理想的研磨速度。

单面抛光机

xia盘尺寸：φ1300×200（mm)

上盘尺寸：φ1000×40(mm)

上盘升降行程：0～200(mm)

上盘移动幅度：±350(mm)

上xia盘间偏心度：50~200(mm)

工件厚度：0.15～1.1(mm)

xia盘转速：0～50(rpm)

上盘压力范围：50～300(Kg)

电源／耗电量：3 phase-380V／15KVA

气源／耗气量：0.45～0.65(Mpa)／100((L/min)

主机尺寸：2720×2250×2370(mm)

机器重量：～8000(Kg)