低温等离子+UV光解除臭一体设备 uv光氧机

概述 低温等离子+UVUV光解一体机分为紫外线光解和等离子分解两个区，恶臭气体先经UV紫外线光解区再到等离子分解区，经多级净化后达标排出。 UV紫外线光解区：利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体，如氨、*胺、硫化氢VOC类、苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧。因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。*，臭氧对有机物具有*的氧化作用，对恶臭气体及其它感激性异味有清除效果。有机恶嗅气体通过本区后，净化运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧氧化反应。 低温等离子UV光解区：采用了*的吸附-分解-碳化工艺技术设计，无需再生处理原料，无需专人负责，不产生二次污染。采用脉冲高压高频等离子体电源和齿板放电装置，使其产生高强度、高浓度、高电能的活性自由基，在毫秒级的时间内，瞬间对经过UV光解区进入等离子分解区的气体内残留的有害分子进行氧化还原反应，将废气中的污染物降解成二氧化碳和水及易处理的物质。利用催化氧化剂的强氧化性和高吸附性，持续地对等离子体未处理尽的污染物和生成的物质进行催化氧化反应，使有害废气经多级净化后终达标排放。光化学技术原理 光化学技术综合利用了高强辐照场对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用，来去除恶臭气体中的硫化氢、氨、甲硫醇、芳香烃等VOC（挥发性有机物）。恶臭气体分子在辐照射线的作用下，物质分子的能态发生了改变，即分子的转动、振动、电子能级发生变化，由低能态被激发至高能态，并利用了氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂来氧化这些有害物质，辐照场和氧一道，存在着一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭去除的速率得到数量级的增加。四种方案一次性投资成本相差不大，低温等离子+光化学技术与生物法一次性投资成本大致相当（略低），化学药剂洗涤法偏低，催化焚烧法的投资成本高。技术特点与优势 设备结构紧凑，占地面积小，安装简单。 友好的人机界面、智能化的控制，操作和维护简便易行。 留有计算机接口，方便联入中控室统一控制、操作。 可与设备联动，只需运行设备，除异味装置即可联动。 一次性投资，资金适中。 设备功耗低，运行时只需电和少量的水；运行费用极低。 设备可以灵活组合，根据不同废气进行不同的组合。 处理后的终产物为二氧化碳和水，无二次污染。适用行业及范围 喷漆车间、油墨印刷、喷涂车间、化工、、橡胶、食品、印染、酿造、造纸、炼油厂、污水处理厂、垃圾转运站等产生的有毒有害恶臭废气体

　低温等离子+UV光解除臭一体设备 uv光氧机

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