半导体脉冲复合清洗系统-半导体脉冲复合清洗系统-武汉锐科光纤激光技术股份有限公司手机版

产品简介

锐科半导体脉冲复合清洗系统主要由复合清洗机柜和复合清洗头组成，复合清洗机柜是由300W脉冲激光器和2000W半导体激光器构成，复合清洗头是由两路准直、聚焦镜和振镜偏转机构构成。其技术特点是通过脉冲激光与高功率半导体激光相互作用形成的一种增强适应性的清洗方法，为两路激光器能量独立可调，清洗扫描宽度与相对位置独立可调，避免了单一清洗的缺点和不足，具有超高功率复合能力，大幅度提升清洗效率，针对不同的清洗......

详细介绍

技术优势

超高功率复合
与单一光源相比清洗效率更高
应用于高反材料能有效清洗

光学技术参数脉冲激光

激光平均功率（W）：300
功率调节范围（%）：10-100
功率不稳定度（%）：≤5
中心波长（nm）：1064±5
重复频率（kHz）：20-50
单脉冲能量（mJ）：12.5
激光接口：QCS
工作环境温度：10℃～40℃
工作环境湿度：≤80%

光学技术参数半导体激光

激光平均功率（W）：2000
功率调节范围（%）：10-100
功率不稳定度（%）：≤3
中心波长（nm）：915±10
工作模式：连续/调制
调制频率（Hz）：50-5k
占空比调节范围（%）：10-100
激光接口：iHQB
工作环境温度：10℃～40℃
工作环境湿度：≤80%

复合清洗头统参数

尺寸（mm）：464x148x239
重量（kG）：6（不含跳线、水管等部件）
线缆长度（m）：15
工作模式：机载
焦距（mm）：160
扫描宽度（mm）：10-70
冷却方式：水冷
冷却流量：≥4L/min
冷却压力：≥0.6MPa
冷却接口：PU管6mm
工作环境温度：10℃～40℃
工作环境湿度：≤80%

300 W脉冲+2000D 半导体激光清洗

脉冲300W 功率：99%
频率：20KHz
扫描速度：9.6m/s
线宽：50mm 半导体2000W 功率：90%
频率：2000Hz
扫描速度：6m/s
线宽：50mm