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激光刻膜机要

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
2017-08-19 16:38:47
2497
武汉三工光电设备制造有限公司

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产品简介
激光刻膜机应用非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割)，其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。
详细内容

 

激光刻膜机产品特点:
半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器
膜面朝上非接触式工作台
直线电机驱动
四路同步输出
自动识别跟踪定位
自动进出料
在线监测
静态显示
 
激光刻膜机技术参数:

型号规格
SEF-G5
有效加工幅面
1.1m×1.4m（或635mm×1245mm）
zui大运行速度   
2000mm/s   
重复定位精度   
±10μm
刻线直线度 
±10μm / 1000 mm  
典型刻膜线宽   
30～60μm  
三线外沿总宽度
300～500μm

 
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。
 
应用和市场：
激光刻膜机应用非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
 
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