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​半导体材料的研发与应用是各领域关注的焦点。其中，硅基氮化镓（Gallium Nitride）外延片作为一种新型高性能半导体材料，其应用场景日益拓展，引起了业界的关注。苏州恒迈瑞公司为客户生产定制4英寸至8英寸GaN-on-Si硅基氮化镓外延片。

半导体材料的研发与应用是各领域关注的焦点。其中，硅基氮化镓（Gallium Nitride）外延片作为一种新型高性能半导体材料，其应用场景日益拓展，引起了业界的关注。苏州恒迈瑞公司为客户生产定制4英寸至8英寸GaN-on-Si硅基氮化镓外延片。硅基氮化镓外延片具有诸多优势。以AlGaN/GaN-on-Si为例，这种氮化镓外延片采用金属有机化学气相沉积（MOCVD）技术，在硅衬底上生长高质量、高稳定性的氮化镓薄膜。该工艺不仅降低了生产成本，还实现了大规模生产线的应用，为实现高频、高效、高温等苛刻条件下的电子设备提供了可能。随着5G通信、新能源汽车、人工智能等领域对高性能功率器件的需求不断增长，硅基氮化镓外延片作为关键性基础材料的地位逐渐凸显。硅基氮化镓外延片制造行业在未来有着发展潜力和空间。相关企业和研究机构应加强技术创新、提高产品质量，并积极应对市场变化，共同推动整个产业链的协同发展